上海诺睿科半导体设备有限公司（简称“诺睿科”）近日发布全新产品系列：光学关键尺寸量测（Optical Critical Dimension: OCD）设备NKShape，并成功交付国内头部客户。

NKShape系列产品专为半导体先进工艺开发，适用于Planar Gate，FinFET，DRAM，3D-NAND等复杂结构的关键尺寸量测。应用场景包括显影后（ADI）、刻蚀后（AEI）、化学机械研磨（CMP）后等工艺站点的二维或三维结构关键尺寸量测，例如不同位置的线宽、槽深、侧壁倾角、特定材料层高等关键工艺参数。

图1：NKShape288设备外观

诺睿科首席技术官（原KLA+公司FaST事业部全球资深经理）袁琼雁博士介绍：诺睿科推出的OCD量测设备NKShape系列产品，以整机系统集成调校，最新的算法架构以及先进制程的丰富经验，为半导体量测市场提供了一款高品质的OCD量测设备。NKShape系列产品以28nm/14nm制程工艺技术节点的量测为基础，同时可覆盖至7nm、5nm及更先进制程的FinFET逻辑产品以及DRAM、3D-NAND存储产品的关键尺寸量测。

NKShape系列产品在核心算法上的优势：

• 采用最新算法理论框架，计算引擎以和并行计算技术：实现【建模和生成OCD Library的速度比美国知名供应商至少快1个数量级】（见图2）；同时具有强大的OCD建模、回归、建库和机器学习能力。
• 先进的算法底层框架结合并行计算技术，【帮助客户大幅节省算力硬件成本】。用于Planar Gate二维结构的建模仅需一台笔记本电脑，用于FinFET和DRAM等三维结构的建模仅需一台工作站。
• 自动智能算法结合最新的AI技术，【实现大幅降低工程师的建模难度】。

图2：NKShape设备算法优势及性能

诺睿科公司董事长余先育表示：NKShape应用在IC量测（Metrology）领域，在光学系统设计、信号采集、系统集成调校、高性能算法、先进工艺应用等方面具有很高的技术难度，长期以来该技术一直由美国KLA和ONTO公司垄断，诺睿科根据市场需求，开发具有自主知识产权，推出面向先进制程工艺的光学关键尺寸量测产品，能够为国内先进制程的OCD设备需求提供本地化的解决方案。同时基于产品的核心技术创新，努力成为全球IC先进制程供应链的中国力量。

诺睿科成立于2022年，专注于前道半导体量测设备的设计研发。公司核心团队成员来自于全球知名的半导体量检测设备公司FaST事业部成建制的资深技术专家，依托服务于全球多家头部半导体制造公司的深厚经验，致力于开发先进的OCD设备。