NKShape 288

• 软件和算法100%自研，自主可控；
• 采⽤最新算法框架和⽮量数据库以及并⾏计算技术；
• 更快的建模计算速度，更快的library生成速度，快速响应客户研发阶段的工艺变化；
• 国内供应零部件达到90%以上；
• 优秀的静态、动态精确性以及长期稳定性；
• 适用于55nm-7nm的2D planar gate以及3D FinFET结构的关键参数及形貌量测；
• 同样适用于DRAM和VNAND三维结构关键参数及形貌量测。